气压烧结炉在高性能氮化硅陶瓷制备中的关键工艺参数研究​ 2025年09月15日

气压烧结炉为高性能氮化硅陶瓷的制备提供了关键工艺平台，通过精确控制温度、压力、气氛及烧结助剂等参数，可实现材料的致密化与优异性能调控。研究表明，1800~1850°C的中高温区间配合12~18 MPa氮气压力，是实现氮化硅陶瓷高致密化与细晶结构的理想工艺窗口。

真空烧结炉的节能技术与环境影响分析 2025年09月05日

​​真空烧结炉​​是一种在​​真空或受控气氛条件下​​，通过​​加热使粉末冶金材料、陶瓷、硬质合金、金属注射成型（MIM）产品等致密化与烧结​​的高温热处理设备。广泛应用于​​航空航天、能源、电子、机械、医疗等领域，是制备高性能材料的关键装备。

气压炉在高温处理中的应用与优势 2025年07月30日

气压炉是一种通过调节内部气体压力与温度，实现材料在特定气氛(如惰性、还原、氧化等)下进行高温处理的关键设备。其结合了高温、高压及可控气氛的多重优势，广泛应用于材料科学、冶金、化工及电子等领域。

真空烧结炉在金属材料加工中的作用 2025年07月17日

真空烧结炉是一种在真空环境下进行烧结处理的高温设备，广泛应用于金属材料加工中，尤其是在高精度、高性能金属零部件的生产中。